Equipamento é uma poderosa ferramenta de aprendizagem, trazendo experiências reais de aplicações através dele podemos estudar sistema de controle de nível, vazão, pressão e temperaturana indústria, comportamento dos sensores, das características de todo o processos e com possibilidade de controle em malha fechada utilizando algoritmo PID. Estrutura é composta por uma robusta bancada em perfilado de alumínio fosfatizado com acabamento em PVC preto, e rodízios para transporte podendo assim ser facilmente transportada de um lugar para outro.

Sendo  uma  ferramenta  excelente  para  o  aluno  iniciar  o  contato  com  sistema  de controle  industrial, permitindo o tratamento  das  variáveis  através  de  malhas  de controle   e   sistema   supervisório   SCADA colando   em   pratica   os   conhecimentos adquiridos em  aula  e  permitindo  estar  mais  bem  preparado  para  o  mercado  de trabalho através de praticas reais.

A Planta de controle de processo é constituída das seguintes maneiras:Painel de comandosuperior da bancada é disponibilizado as conexões com o CLP. CLP possui 40 I/O digitais, cartão analógico com 05 I/O e comunicação ethernet, todas elas em conectadas a pinos do tipo banana para serem usados com os sensores e motor da planta, que farão o controle dos ensaios realizados, juntamente com as chaves de comando, botoeiras, sinaleiros e chave de emergência para parada da fonte de alimentação, dos instrumentos e dos equipamentos.

COMPONENTES DO SISTEMA

02 (dois) Reservatórios acrílico cristal de espessura de 10 mm,com capacidade de 25L cada. O primeiro reservatório é responsável pelo abastecimento, este reservatório principal com dimensões de 400 mm de diâmetro e 800 mm de altura, instalado na estrutura. Na parte do reservatório está localizada a linha para alimentação de água com válvula solenóide tipo 2 vias NF comanda pelo painel, válvula de bloqueio tipo esfera. Na parte lateral deste reservatório está localizado os pontos de tomadas com linhas e medidores de nível, na parte inferior do reservatório está instalada uma válvula solenóide de dreno para o reservatório de alimentação, situado na parte inferior da estrutura e uma válvula de bloqueio tipo esfera de com conexão rosca manual possibilitando um alinhamento manual. O reservatório secundário é o reservatório de controle onde os ensaios serão realizados. Esse tanque possuí dois sensores de nível do tipo flutuador para detectar os níveis alto e baixo do tanque e um sensor de nível ultrassônico usado para o ensaio de controle de nível do reservatório.Reservatório em aço inox cilíndrico com dimensões 300mm de diâmetro e 400mm de altura com tubulação de entrada e ponto para saída de fluxo de água, instalação de manômetro tipo petroquímico.Os tanques são interligados através de tubulações, aonde é instalada a bomba centrifuga, após a bomba estão instalados dois sensores um de vazão e umde pressão diretamente na tubulação. A bomba é acionada por um inversor de frequência que será responsável pela variação da velocidade e assim proporcionar os ensaios propostos.Bomba centrífuga com potência de1,5 CV: alimentação 220VAC / monofásica / 60Hz, conexões das linhas: 1½” NPT com redução para 1¼” NPT.

Transmissor de nível por pressão diferencial com as seguintes características:

• Material dos flanges e adaptadores em aço carbono niquelado;
• Material da purga em aço inox;
• Alimentação: 24 VDC;
• Saída: 4 a 20ma (2 fios);
• Indicação local com display LCD, configuração diretamente no instrumento
• Material do elemento: AISI 316l;
• Invólucro em alumínio;
• Fluido do processo: água.

Chaves de nível instaladas na parte superior do reservatório principal a com as seguintes características:

• Conexão ao processo: roscada;
• Fluído de operação: água;
• Ligações elétricas: contato seco ou saída com dispositivo eletrônico Inter travadacom a bomba,  de  tal  forma  que  a  mesma  desligue  automaticamente  quando  a  chave  for atuada.

Manômetro para conexão ao processo tipo reta com escala de 0 a 3 Kgf/cm2 e indicação dupla em PSI e Kgf/cm2;

Transmissor de temperatura com sensor tipo PT100 ajustado para faixa de 0 a 100ºC  e  sinal  de  saída  4  a  20 mA(ligação  à  2  fios),  com  gradiente  de  40ºC/h com interface de potência para controle com sinal de 4 a 20 mA controlado pelo CLP;

Rotâmetro  com  faixade  trabalho  mínimo  de  5000  l/h,  temperatura  máx.  de  60 ºC;

Chave de fluxo para vazão a partir de 500 l/h;

Transmissor de vazão por pressão diferencial tipo diferencialcom as seguintes características

• Material dos flanges e adaptadores em aço carbono niquelado;
• Material da purga em aço inox;
• Tipo do elemento com diafragma metálico;
• Calibração de 0 a 750 mmh2o;
• Alcance: 0,0125 a 0,5 bar (permitido variação de +/-20%);
• Exatidão: +/-0,1 % SPAN;
• Alimentação: 24 VDC;
• Saída: 4 a 20mA(2 fios);
• Configuração diretamente no instrumento;
• Indicação local com display LCD;
• Material do elemento: AISI 316l;
• Invólucro em alumínio;
• Pressão máxima: 2 kgf/cm2;
• Ajuste de zero e SPAN local (para medição de pressão diferencial na placa de orifício);
• Placa de orifício 3/4 ” em aço inox 316 com flange;
• Válvula de controle dediâmetro 1" NPT, normalmente fechada, classe 150 LBS.

Atuador   tipo   diafragma,   corpo   em   aço   carbono   e   internos   em   aço   inox, posicionador eletro pneumático com sinal de entrada de 4 a 20 mAe saída de 3 a 15 PSI;

Válvulas manuais tipo esfera de 2 vias, corpo em açocarbono e esfera em aço inox;

Válvula de 3 vias tipo esfera, tipo divergente; corpo em aço carbono e esfera em aço inox;

Válvulas solenoidetipo 2 vias NF 1/2” NPT, tensão 24 VDC.

PAINÉISDE CONTROLE

Painel superior com Interface homem máquina IHM com display touchscreen,inversor de frequênciapara  acionamento de  motor  da  planta,  com  entrada  de  4  a  20  mA  e permitir ajuste PID para controle de pressão. Painel utilizado para realizar o controle e segurança  geral  da  bancada,  evitando  assim  qualquer  tipo  de  acidente  no  momento dos exercícios.  Todas  as  conexões  do  painel  estão  disponíveis  em  conectores  tipo banana de 4mm.

SOFTWARE SUPERVISÓRIO

Software supervisório  permite  a configuração  de  aplicativo,  diagnóstico  de eventos  e gerenciamento  de  ativos  e interface  para  visualização  de  processo,  configuração  e utilização dos aplicativos do CLP. A  operação  da  planta permite  as  alterações  nas variáveis  controladas  na  forma  de alteração de referência bem como alteração de carga. O supervisório com aplicativo para monitoramento via Web, permitindo monitoramento remoto das variáveis e da operação da planta.

PRINCIPAIS EXPERIMENTOS 

• Práticas de Modelagem:

• Práticas de Instrumentação:

• Práticas de Sistemas de controle e Controle de Processos: